케이맥은 지난 29일 서울 르네상스 호텔에서 치뤄진 ‘2013년도 제 2회 신기술 인증 수여식’에서 세계최초 상용화한 Nano-MEIS 기술로 신기술(NET: New Excellent Technology) 인증 마크를 획득했다고 밝혔다.

신기술 인증은 경제적 파급효과가 크고 국가 경쟁력 향상에 기여할 새로운 기술을 선정하는 인증 제도로, 정부기술개발사업 신청시 우대 및 기술보증기금을 통한 기술금융지원등의 혜택이 주어진다.

이번 신기술 인증의 영예을 안은 기술은 총 29개로 전기전자, 정보통신, 기계소재, 화학생명, 건설환경 등 각 기술 분야별로 선정하였고, 114개 신청 기술 중 1차(서류•면접), 2차(현장심사), 3차(종합심사) 심사를 거쳐 최종 선정되었다.

케이맥이 인증을 받은 ‘TOF 기반으로 한 중에너지 이온산란분광 기술’은 고 집속화된 중에너지 이온을 반도체 웨이퍼에 조사하여 산란되어 나오는 1차 이온의 비행거리(TOF:Time of flight)를 측정하여 두께 및 조성까지 분석해낼 수 있는 세계 최초의 장비이다. 이를 통해 그 동안에 측정불가였던 수 nm의 반도체 웨이퍼 두께를 정성 및 절대 정량 분석할 수 있는 기술이며 2007년도부터 한국표준과학연구원(현재 대구경북과학기술원)과 공동 연구 개발하여 상용화 하였다.

특히 이 기술은 지난달 개최된 미국 샌프란시스코에서 개최된 ‘Semicon West 2013’ 에서 글로벌 반도체 대기업들로부터 큰 호응을 받은 기술로써, 이번 신기술 인증의 엄격한 심사과정에서도 심사위원들의 호평을 받아 선정된 기술이어서 더욱 주목된다.

케이맥의 한 관계자는 “이번 신기술 인증으로 다시 한번 Nano-MEIS의 기술적 우수성을 입증하는 계기가 됐다.”라며 “케이맥의 또 하나의 신수종 아이템으로써 회사성장에 큰 역할을 할 것” 이라고 밝혔다.

케이맥은 대전광역시 대덕연구개발특구 내에 위치한 R&D 지향형 벤처기업으로서 물성분석 기술을 근간으로한 측정∙분석 토탈 솔루션 제공 업체이다. 주력 사업은 FPD 공정용 모니터링 장비 분야로 세계최초 4MASK 공정을 실현시켜 공정혁신을 주도했다. 이를 토대로 반도체 분석장비 분야 및 바이오 진단장비 분야로 사업영역을 넓혀나가고 있다.