에스앤에스텍은 전량 수입에 의존하던 포토마스크의 핵심 원재료인 블랭크 마스크 국산화 개발에 성공하여 대만, 중국, 홍콩, 싱가포르, 일본 등에 수출을 이어간 공로를 인정받아 이 상을 수상하게 됐다.

블랭크 마스크는 반도체 및 TFT-LCD 의 핵심 공정인 리소그라피 공정의 핵심 재료인 포토마스크(Photomask)의 원재료로 패턴이 노광되기 전의 마스크를 의미한다.

에스앤에스텍은 일본업체와의 특허 승소를 기반으로 지난 5월 하이엔드 제품 중 하나인 PSM(위상시프트) 블랭크 마스크 시장 진출에 시동을 걸었으며 특히, TFT-LCD용 TM 블랭크 마스크의 경우 판매 실적이 지속적으로 이루어지고 올 해부터는 신규 고객이 증가함에 따라 고객다변화가 이루어졌다.

한국무역협회는 매년 무역의 날을 맞아 수출의 확대 및 질적 고도화, 해외시장 개척 등에 공헌한 유공자에 대하여 정부포상 및 수출의 탑을 수여하고 있다.

에스앤에스텍 관계자는 “모든 임직원의 열정과 도전의식을 바탕으로 블랭크 마스크 개발 및 수출에 힘쓴 결과 2,000만불 수출의 탑을 수상할 수 있었다“며 “앞으로도 끊임없는 기술개발을 통하여 하이엔드 제품의 비중을 높이고 해외시장 공략 및 고객만족에 더욱 적극적으로 나설 것”이라고 말했다.

한편, 에스앤에스텍은 2008년에 대한민국기술대상 및 10대 신기술에 선정됐으며, 2009년에는 지식경제부가 선정하는 하반기 세계일류상품 심사에서 현재일류상품 및 생산기업으로 승격되었으며 최근에는 한국거래소에서 2009년에 이어 2년 연속 히든챔피언으로 선정된 바 있다.