RFHIC, 4세대 방사광가속기 핵심장비 고출력 RF 증폭시스템 수주
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RFHIC, 4세대 방사광가속기 핵심장비 고출력 RF 증폭시스템 수주
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4세대 방사광가속기시설의 조감도(출처-다목적방사광가속기구축사업단 홍보용 리플렛)
4세대 방사광가속기시설의 조감도(출처-다목적방사광가속기구축사업단 홍보용 리플렛)

화합물 반도체 전문기업 RFHIC(대표이사 조덕수)가 4세대 다목적 방사광가속기 구축 사업의 핵심 구성품인 고출력 무선주파수(RF) 증폭시스템(SSPA)에 대해 187억원을 수주했다고 밝혔다.

이번 수주는 RFHIC가 기존 통신 및 방산 중심의 RF 반도체 사업에서 나아가, 국가 전략 연구시설 및 산업 인프라에 적용되는 RF 에너지 시스템 분야로 사업 영역을 확장하고 있음을 보여주는 사례라는 점에서 의미가 있다고 회사측은 전했다.

방사광가속기는 전자(아주 작은 입자)를 빛의 속도에 가깝게 가속해 매우 밝고 정밀한 X선(방사광)을 생성하는 대형 연구시설이다. 이를 통해 물질의 구조와 변화 과정을 정밀하게 분석할 수 있어 첨단 연구 분야에 널리 활용되고 있다. 특히 4세대 방사광가속기는 기존 대비 방사광의 밝기와 정밀도가 크게 향상돼, 보다 정확한 분석과 실시간 관찰이 가능하다는 평가를 받는다.

이번에 수주한 RF 증폭시스템에는 RFHIC의 질화갈륨(GaN) 기반 반도체 기술이 적용된 고출력 증폭기(SSPA)가 사용됐다. 이를 통해 에너지 효율을 높이는 동시에 디지털 제어가 가능하고, 장시간 연속 운전이 요구되는 환경에서도 안정성과 유지보수 편의성을 확보했다

RFHIC 관계자는 “장기간 안정적인 운전이 필수적인 국가 대형 연구시설에 적용된 것은 당사의 기술 신뢰성과 공급 역량을 동시에 인정받았다는 의미”라며, “이번 수주를 계기로 현재 진행 중인 반도체 소재 및 장비, 이차전지 장비, 의료장비 등 다양한 분야로 RF 에너지 사업 확대에 속도를 낼 것”이라고 말했다.

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