^^^▲ 하나로의 원자로 노심으로, 반도체 생산을 위한 중성자 도핑이 이뤄지는 공간^^^

한국원자력연구원(원장 양명승)은 연구용 원자로 하나로(HANARO)에서 생성된 중성자를 이용해서 고품질 실리콘 반도체를 생산하는 중성자핵변환도핑 (NTD; Neutron Transmutation Doping) 기술에 대해 품질경영에 관한 국제 표준인 ISO(International Organization for Standardization) 9001:2000 인증을 획득했다.

중성자핵변환도핑(NTD)은 부도체인 고순도의 실리콘(Si) 단결정에 중성자를 쪼여 실리콘 원자핵 중 극미량을 인(P)으로 핵변환함으로써 n-형 반도체로 변환시키는 기술이다.

이렇게 만들어진 반도체는 실리콘에 인을 직접 확산시키는 일반적인 화학공정보다 인의 분포를 매우 균일하게 할 수 있는 장점이 있어 고속전철, 자기부상열차, 전기자동차, 풍력발전소 설비 등의 인버터에 사용되는 대전력용 반도체 소자 제조에 이용되고 있다

한국원자력연구원은 지난 2002년 국내 유일의 연구용 원자로인 하나로를 이용해서 5인치 NTD 반도체를 생산하는 기술을 자체 개발하여 상용화한 데 이어, 2005년부터는 6인치 반도체도 생산하고 있다.

현재 프랑스, 네델란드, 호주, 벨기에, 독일, 미국, 일본 등의 10여개 연구용 원자로에서 NTD 반도체를 공급하고 있는데, 하나로는 일본 및 유럽의 반도체 웨이퍼 회사들로부터 세계 최고의 품질을 인정받고 있으며 올해 말 상용화를 목표로 8인치 단결정을 이용한 반도체 생산을 시험 중에 있다.

이번 ISO 9001 인증 획득으로 한국원자력연구원은 NTD의 기술 수준 및 품질 관리, 운영 능력에서 국제적으로 신뢰도를 공인받게 됐다.