2001년 12월에 한 산업 스파이가 삼성 전자 핵심 휴대폰 기술을 중국으로 유출하여 70억원에 이르는 부당이득을 챙기고, 삼성 전자는 막대한 손실을 입은 사건이 발생했었다. 또 작년에는 국내의 한 벤처 기업이 개발한 CDMA 1×2.5세대용 무선통신용 모뎀기술이 중국으로 유출되기도 하였다.

특허청은 국내 첨단 기술의 해외유출 사건으로 인한 기업의 피해가 크게 증가하고 심각한 사회∙경제적 문제가 야기됨에 따라 현행 산업 스파이에 대한 처벌을 대폭 강화하는 내용의 ‘부정경쟁 방지 및 영업 비밀 호에 관한 법률’ 개정안을 입법 예고 하였다.

최근 우리나라에서 흔히 산업스파이라 불리는 ‘영업비밀침해자’로 인한 주된 피해 대상은 반도체, 휴대전화 및 LCD관련기술 등 세계적으로 경쟁력을 가지고 있는 첨단 정보통신 핵심 기술이 주종을 이루고 있으며 유출 국가도 중국이나 대만처럼 경쟁국이 대부분이다.

그러나 산업스파이가 영업비밀을 해외로 유출하여 100억원의 부당이득을 얻는다 하더라도, 이에 대한 처벌은 현행 규정으로는 1억원이하의 벌금밖에 처할 수 없는 상황이어서, 그 심각성에 비해 현행 처벌규정이 미미하다는 각계의 비판 여론이 있어 왔다.

스파이에 대한 처벌이 강한 미국의 경우에는 경제스파이법(Economy Espionage Act)에 의해 영업 비밀 유출시 약 120억원(1000만 달러)의 벌금을 부과할 만큼 정보 유출에 무거운 제재를 가하고 있다. 이번 개정안에서는 미국과 비슷한 수준의 처벌 규정을 마련하고 처벌 대상자의 범위도 넓혔다.

이번 개정안의 주요내용은, 국외 정보 유출시 산업 스파이에 대해 7년이하의 징역 또는 1억원 이하의 벌금에 처하던 것을, 7년이하의 징역 또는 재산상 이득액의 2배이상 10배이하에 상당하는 벌금으로 처벌 규정을 강화해 부당한 재산상의 이득을 철저히 환수토록 하였고, 친고죄 조항을 폐지하여 설령 영업비밀 침해사범에 대한 고소∙고발이 없더라도 이를 처벌할 수 있도록 하였다.

한편 개인과 조직을 동시에 처벌할 수 있는 양벌규정을 신설하였으며, 미수∙예비∙음모도 처벌할 수 있도록 하고, 신분범 항을 폐지하여 종전의 ‘기업의 전∙현직 임직원’만을 처벌대상으로 하던 것을 ‘누구든지’ 처벌대상이 될 수 있도록 확대하였으며, 보호대상도 종전 ‘기업의 기술상의 영업비밀’에서 ‘기업의 영업비밀’로 확대하였다.

특허청은 앞으로 20일간의 입법예고와 공청회(8～9월)를 거쳐 각계로부터 의견을 충분히 수렴한 뒤, 정부안으로 최종 확정하여 국회에 제출할 예정이다.